Page 57 -

โครงการหนังสืออิเล็กทรอนิกส์ เฉลิมพระเกียรติสมเด็จพระเทพรัตนราชสุดาฯ สยามบรมราชกุมารี
copy right copy right copy right copy right copy right
copy right copy right copy right copy right copy right copy right
copy right copy right copy right copy right
45

(1) ทึบแสงทําใหไมสามารถมองเห็นผลิตภัณฑขางใน แมวาคุณสมบัตินี้อาจเปนประโยชนกับ

สินคาประเภทอื่น
(2) ใชกับไมโครเวฟไมได ทําใหไมเหมาะกับการใชบรรจุผลิตภัณฑอาหาร
copy right copy right copy right copy right copy right copy right

copy right copy right copy right copy right copy right copy right

ภาพที่ 2-8 แผนภูมิการอาบไอโลหะดวยวิธีสปตเตอร
ที่มา: ดัดแปลงจาก http://clearmetalsinc.com/technology/

การอาบไอซิลิกาออกไซดสามารถทําไดหลายวิธีและนิยมใชวิธีสปตเตอรมากกวา ใชกับฟลม OPP
และ OPET เรียกฟลมนี้วาฟลมเคลือบแกว หรือ Silica coated film ความหนาของซิลิกาออกไซด
copy right copy right copy right copy right
800-1,500 อังสตรอม มีลักษณะโปรงแสงทําใหใชกับไมโครเวฟได อีกทั้งมีสมบัติปองกันการซึมผาน
ของกาซและทนทานความรอนไดดีมาก แตฟลมแข็งกระดางกวาฟลมอาบไออะลูมิเนียมมาก และ
เมื่อเก็บไวนานสีจะเปลี่ยนเปนสีชาออนๆ

อนึ่ง ฟลมอาบไอโลหะที่ใสอีกชนิด คือ ฟลมอาบไออะลูมิเนียมออกไซด ซึ่งสามารถใชกับไมโครเวฟ

ไดเชนกัน แตการอาบไอนิยมใชวิธีระเหยภายใตสุญญากาศ โดยใชลําอิเล็กตรอนเปนแหลงพลังงาน

ทําใหโลหะระเหยเปนไอ

6.2 การอาบไอโลหะดวยวิธีทางเคมี (Chemical vapor deposition)
หลักการของการอาบไอโลหะดวยวิธีทางเคมีคลายวิธีสปตเตอร แตกาซพลาสมาจะทําปฏิกิริยากับ

อะตอมโลหะที่หลุดออกมาในสภาพกาซดวยและไดเปนสารประกอบใหมกอนจะไปเกาะบนผิววัสดุ

จึงเรียกวิธีนี้วา Plasma enhanced chemical vapor deposition เชน กาซพลาสมาไนโตรเจน เมื่อ

ชนกระแทกแทงไทเทเนียมจนหลุดออกมาในสภาพกาซแลว พลาสมาไนโตรเจนจะทําปฏิกิริยากับ

copy right copy right copy right copy right